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微粒子懸濁液 高品質の材料組織分析サンプル作製に

QPREP fine polishing suspensions are the polishing products of choice for the most demanding polishing requirements. In this process, a chemical-mechanical polishing is performed using colloidal silicon dioxide or aluminum oxide. A colloidal suspension is a heterogeneous mixture, in which fine particles are evenly distributed in a liquid, and do not settle. Fine polishing suspensions with colloidal silicon dioxide utilize this stability for effective and gentle polishing, which improves surface quality and consistently delivers high-quality results.

長所

  • 最高の表面品質
  • すべての変形を振動研磨で除去
  • 0.1μm~0.05μmの条痕を研磨/除去

推奨用途

  • 詳細な微細構造分析
  • 非常に軟質または非常に硬質な延性材料

微粒子懸濁液

微粒子懸濁液 (AI2O3)
EPOSAL 

  • 結晶化せずに供給
  • 鉄材料、ポリマー、複合材料、PCB(ポリ塩化ビフェニル)、岩石、鉱物に
  • 対応粒径: 0,06 µm
     

EPOSIL F / EPOSIL Non dry / EPOSIL M 
コロイド状シリカ

  • 研磨用に希釈エッチング液を添加可能
  • 鉄材料および非鉄材料、セラミックに
  • アルミニウム(Al)、銅(Cu)、チタン(Ti)、はんだ接合などの軟質材料向け
  • 対応粒径: EPOSIL F: 0,1 µm / EPOSIL Non Dry: 0,05 µm / EPOSIL M: 0,06 µm

EPOSIL M11 
コロイド状シリカ

  • チタン、ニッケル、スズ、およびその合金向け
  • 対応粒径: 0,06 µm

非水性の微粒子懸濁液
ETOSIL E 

  • マグネシウム、亜鉛などに
  • 対応粒径: 0,06 µm

アルミナ懸濁液、焼成

濃縮水、希釈用、3~5容量部の水に希釈

  • 対応粒径: 0,3 / 0,6 / 1 µm

QATMがお届けする究極の研磨用機器

加工条件(知識、慎重な加工、消耗品と機器の正しい選択)を充足することで、信頼性、安全性、効率性の高い研磨が実現します。

技術情報

当社のナレッジベースでは、これ以外の手順もご紹介しています。詳細は当該ページをご覧ください。

ポリッシングに関する当社ナレッジベースからの参考記事の一例:

  • 3ステップの金属組織学的ポリッシング
  • 金属組織分析のためのダイヤモンドポリッシング
  • 金属組織分析のための酸化物研磨
  • 金属組織学分析のための研磨とポリッシングのヒント

金属組織検査用の試料片
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